為什么半導體加工生產中會應用到超純水?
我們都知道，半導體在加工生產的過程中會需要一定量的超純水，對于其品質的要求也是極高的。那什么是超純水呢?超純水是指一種電阻率達到18 MΩ*cm的一種水，這類水幾乎沒有什么雜質，不含有任何細菌、病毒等有機物，完全可用在半導體領域。這樣的超純水普通工藝基本很難制取出來，并且對于超純水制取的標準也是極其嚴格的。
對比傳統(tǒng)超純水生產工藝，現如今應用的超純水設備多是采用膜技術，再應用反滲透+EDI系統(tǒng)+拋光混床相結合的工藝來制取超純水，具有運行成本低，運行可靠的優(yōu)點，出水水質符合國家電子級超純水標準GBT11446.1-2013EW-Ⅰ標準。
超純水設備引人注目的優(yōu)點：
1、有效降低水質的離子含量
EDI是一種將離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術，無需酸堿再生，是一種新型的脫鹽方式。EDI無需再生化學品的再生，運行成本低，EDI系統(tǒng)的自動化程度很高，連續(xù)工作，出水水質好且穩(wěn)定，出水電阻率≥15MΩ·CM。
2、高品質高回收率
設備采用曲線微導力技術，應用超純水膜元件，在拋光段采用陶氏進口拋光樹脂以及自主研發(fā)的除硼專用樹脂，在保證系統(tǒng)高回收率的同時，有效提高系統(tǒng)的產水水質。
3、自動化程度高、運行費用低
自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能，且能耗低、水利用率高、運行成本低。
超純水設備因其結構設計比較緊湊，占地面積小，可以為企業(yè)節(jié)省大量的空間得到了許多半導體行業(yè)的歡迎。可廣泛運用于電子芯片、集成電路及封裝、光伏、晶圓、科研、航空航天、半導體等領域。
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編輯：虞美人 技術：米
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